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中微公司低压外延设备交付先进制程客户验证，常压外延进入晶圆验证
AMEC: reduced-pressure epitaxy shipped to advanced-process client for production validation; atmospheric epitaxy entering wafer validation
AI 导读
中微公司（AMEC）的减压外延设备已发运至一家先进制程客户进行生产验证，常压外延设备正进入晶圆验证阶段。其 PECVD 采用 16 反应站和新等离子体源，沉积吞吐量较国内外标准设备提高约 80–100%；CuBS PVD 采用 14 反应腔对称双路设计，BS 层电阻率显著降低，产出提升约 50–100%，设备已交付国内先进逻辑研发线验证。
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