中微公司在分析师会议披露多款设备验证进展

中微公司（AMEC）的减压外延设备已发运至一家先进制程客户进行生产验证，常压外延设备正进入晶圆验证阶段。其 PECVD 采用 16 反应站和新等离子体源，沉积吞吐量较国内外标准设备提高约 80–100%；CuBS PVD 采用 14 反应腔对称双路设计，BS 层电阻率显著降低，产出提升约 50–100%，设备已交付国内先进逻辑研发线验证。

中微公司在分析师会议上披露半导体设备进展。其PECVD设备采用16个反应台配置和最新等离子体源，输出量较国内外标配设备提升80%到100%；CuBS PVD设备配置14个反应腔，输出率提升50%至100%，已交付国内先进逻辑器件研发线验证。减压外延设备已付运到先进制程客户端进入量产验证阶段，常压外延设备也进入晶圆验证阶段。