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三星电子蚀刻工艺配方泄露至泛林韩国子公司
AI 导读
三星电子半导体蚀刻工艺配方外泄至美国半导体设备商泛林(Lam Research)韩国分支机构。泛林本只能获取双方约定范围内、用于设备维护与性能优化的产线监控数据,经核查其通过不当请求多次拿到未经许可外传的工艺配方独立文件。三星电子于今年下半年发现该事件,总部将其定性为重大技术泄露并严肃处置。
推荐理由
事件给出了泄露途径的具体细节,即设备商通过不当请求获取超范围的工艺配方文件,可借此了解代工合作中的数据边界风险。
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