三星刻蚀工艺配方被曝多次泄露给泛林韩国

三星电子半导体蚀刻工艺配方外泄至美国半导体设备商泛林（Lam Research）韩国分支机构。泛林本只能获取双方约定范围内、用于设备维护与性能优化的产线监控数据，经核查其通过不当请求多次拿到未经许可外传的工艺配方独立文件。三星电子于今年下半年发现该事件，总部将其定性为重大技术泄露并严肃处置。

据《THE ELEC》11月9日报道，三星电子部分半导体刻蚀工艺配方未经授权被多次传至泛林集团（Lam Research）韩国分公司，2026年下半年被三星调查发现。泛林为三星提供刻蚀、沉积设备，双方原约定仅可获取部分生产线运行数据，但三星发现其通过不当请求获取了明确禁止对外传输的工艺配方文件。目前三星和泛林韩国均未回应媒体问询。